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レーザ直描装置

JPU加盟企業では,テレセントリックfθレンズを使用する レーザラスター方式の直接描画装置を製造販売しています.

各種のレーザ直描装置は以下の共通機能を持っています.
   ● レーザラスターー走査とテレセントリックfθレンズ方式
   ● レーザ波長はYAG355nm,377nm,405nmなどに対応
   ● 描画データは,BMP方式
   ● その他RIPシステムなどは別途お打ち合わせ
製品に関心をもたれましたら是非お問い合せください.

 

外観 製品名/概要 製造元
プリント基板用レーザ直描装置
当社では,マルチポリゴンの走査方式の光走査ユニットを用いて,プリント基板用のレーザー直接描画システムを製品化・販売しております.このマスクレスレーザー露光装置 はメムス(MEMS)用レーザー露光装置としても使用が可能です.
(株)オプセル

マルチポリゴンレーザ直描装置 
ポリゴン走査ユニットを複数台(マルチ)連結することで,φ10μm(FWHM)のビーム径を維持したままワイド露光にも対応

(株)オプセル
テレセンfθレンズレーザ直描装置
ビーム径:φ3ミクン/Φ8μm/Φ15μm等(走査幅,レーザ波長に対応)
走査幅:10mm/60mm/80mm等
(株)オプセル
テレセンfθレーザ円筒直描装置
・微小な細線を高速で描画可能
・シュリンクフィッタ方式による高精度fθレンズ締結技術
・マルチポリゴン方式による走査幅のフレキシブル化
(株)オプセル
精密LSU(レーザ走査ユニット)
・ テレセントリックfθレンズを使用
・ レーザ走査幅は10~250mmなど
・ レーザスポット径は,5~30μmなど
(株)オプセル

 

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