製造元：（株）オプセル

テレセンｆθレンズを利用したレーザ直描装置です.

 

 

基本仕様

ビーム径 Φ3μm/Φ8μm/Φ15μm/等
走査幅 10mm/60mm/80mm等
レーザ 405nm,650nm,780nm(半導体レーザ)355nm,488nm,532nm(個体レーザ)
分解能 5,080dpi/2,540dpi
副走査 走査幅と同じ(但しカスタム)
オプション フォーカス確認ユニット エアーチャックテーブル

 

パターン描画サンプル顕微鏡写真

405nm用液体レジストをCr基材に膜厚(３μm)塗布.

約Φ10μmビーム/5,080dpiでデータ 露光.